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    等離子UV光氧光解除臭設備

    等離子UV光氧光解除臭設備

    產品分類:UV光氧廢氣處理設備
    產品簡介: 等離子、UV光解除臭設備又稱等離子光解一體機,其主要原理是在高壓電場作用下,產生大量的正、負氧離子,具有很強的氧化性。能在極短的時間內氧化、分解甲硫醇、氨、硫化氫、醚類、胺類等污染臭氣因子,打開有機揮......

    產品詳情

      等離子、UV光解除臭設備又稱等離子光解一體機,其主要原理是在高壓電場作用下,產生大量的正、負氧離子,具有很強的氧化性。能在極短的時間內氧化、分解甲硫醇、氨、硫化氫、醚類、胺類等污染臭氣因子,打開有機揮發性氣體的化學鍵,最終生成二氧化碳和水等穩定無害的小分子,從而達到凈化空氣的目的。

      等離子、UV光解除臭設備適用于:垃圾、污水廠等市政設施,以及制藥廠、油漆廠、涂料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、制藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等工業場所。

      低溫等離子凈化工作原理

      采用低溫等離子體分解油霧、廢氣等污染介質時,等離子體中的高能離子起決定性的作用。流星雨壯的高能離子與介質內分子(原理)發生非彈性碰撞,將能量轉化成基態分子(原子)的內能,發生激發、離解、電離等一系列過程使污染介質處于活化狀態。污染節制在等離子體的作用下‘產生活性自由基’活化后的污染物分子經過等離子體定向連化學反應后被脫除。當離子平均能量超過污染介質中化學鍵結合能時,分子鍵斷裂,污染介質分解,并在等離子發生器吸附場的作用下被收集。在低溫等離子體中,可能發生各類的化學反應,這主要取決于等離子的平均能量、離子密度、氣體溫度、污染物介質內分子濃度及共存的介質成分

      對氣態有機污染物的降解機理

      有足夠的能量來產生自由基,引發一系列復雜的物理、化學反應。由低溫等離子體引起的氣體有機物化學反應是在氣相中進行的電離、離解、激發、原子、分子間的相互結合及加成反應。這個能量足以使大多數氣態有機物中的化學鍵發生斷裂,從而使其降解。

      從凈化空氣效率考慮,我們選擇了電暈電流較高化裝置采用脈沖電暈放電低溫等離子體與吸附技術相結合的原理對有害氣體進行消除,其中低溫等離子體主要用來去除硫化氫、氨、苯、甲苯、二甲苯、甲醛、丙酮、尿烷、樹脂、等氣體及消毒霉菌,吸附材料主要用于去除二氧化碳以及臭氧等副產物。凈化裝置由初濾單元、低溫等離子體發生器及過濾單元、風機等設備和部件組成。

      初級電子在電場中獲得加速,撞擊空氣中的氧分子。當能量超過氧分子的電離電位時氧分子由于另一中性分子結合變成負極性氧離子(02-),結果是氧離子的兩極分化并吸附中性氧分子形成02+、02-、02等氧聚集的離子群,具有極強的氧化性,科在很短的時間內將污染空氣中的有害成分氧化分解為無害的產物和水。

     
     
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